| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교) |
| 권호 | 8권 2호, p.4834 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | VTMS 전구체를 이용한 직접 플라즈마 CVD 저유전체 박막의 제조 및 평가 |
| 초록 | 본연구는 반도체 소자의 제작시 사용되는 저유전체 물질중 CVD SiCOH 박막에 대한 연구이다. 전구체 물질로서 VTMS(vinyltrimethylsilane)을 사용함으로써 낮은 유전상수와 열적, 기계적으로 안정적인 특성을 갖는 물질을 개발하였다. |
| 저자 | 곽상기, 이시우 |
| 소속 | 포항공대 화학공학과 |
| 키워드 | Low dielectric constant; CVD; VTMS |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
