| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2008년 봄 (05/09 ~ 05/10, 한양대학교(안산)) |
| 권호 |
12권 1호 |
| 발표분야 |
무기재료 |
| 제목 |
Insulating Properties of Fluorocarbon Films Deposited in C4F8 Plasmas |
| 초록 |
기존의 절연체로 사용 중인 SiO2를 대신 할 물질로서 높은 유전상수, 열안정성과 기계적 강도성이 좋은 불화탄소막(fluorocarbon films)이 새로운 절연체로 부각되고 있다. 본 연구에서는 C4F8플라즈마에서 증착된 불화탄소막의 전기적 및 광학적 특성을 분석 하였다. C4F8 플라즈마에서 증착된 불화탄소막 표면을 금으로 코팅하여 Metal-Insulator- Semiconductor(MIS)소자를 제조하였고, 공정변수에 따라 불화탄소막의 전기적/광학적 특성을 살펴보았다. 또한, XPS (X-ray photoelectron spectroscopy)로 증착된 불화탄소막의 조성을 살펴보았다. |
| 저자 |
박병훈, S.K. Mahapatra, 권혁규, 김창구
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| 소속 |
아주대 |
| 키워드 |
Fluorocarbon Films; C4F8 Plasmas
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| E-Mail |
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