| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2010년 봄 (05/13 ~ 05/14, BEXCO(부산)) |
| 권호 | 14권 1호 |
| 발표분야 | 정보전자소재 |
| 제목 | Hybrid hard mask with single layer to apply spin-on process |
| 초록 | 현재 하드마스크는 CVD (Chemical Vapor Deposition) 공정에 의한 다층구조형태(Sub./a-carbon/SiON/BARC/PR)로 사용되어지고 있다. 이러한 공정은 고가의 장비와 운영비, 그리고 높은 에너지 사용량으로 인해 생산원가 압박을 받고 있는 실정이다. 따라서 스핀공정을 이용한 단층구조로 사용이 가능한 하이브리드 하드마스크에 대해 연구하였다. 개발한 하드마스크는 실리콘과 유기물간의 중합체로써 덴드리머 형태를 가진다. 또한건식각시 식각선택비가 우수하고 정밀패턴공정을 위한 단파장 광원에 적용 가능하다. 따라서 공정비용의 절감과 생산성 향상에 크게 기여할 것으로 여겨진다. |
| 저자 | 송재동, 유제정, 이성구, 이경균, 김상범 |
| 소속 | 한국생산기술(연) |
| 키워드 | 하드마스크; 덴드리머; 식각 |
